Científicos de Japón diseñan una máquina de litografía EUV con un consumo y coste muy inferior a las actuales soluciones 4x5j6j

Los fabricantes de semiconductores siguen evolucionando para ofrecer alto precio a pagar por cada una sumado al alto consumo con el que funcionan estas máquinas. Pero desde Japón, un profesor de la universidad de Okinawa ha presentado un nuevo sistema EUV que dice reducir considerablemente el consumo y los gastos operativos. 6d2l5g

Con esta nueva tecnología se reduce el número de espejos necesarios a únicamente 2, siendo de 6 o más los habituales con la tecnología EUV actual. Además, con estos dos espejos se ha conseguido mejorar la precisión incluso de las soluciones actuales. Además, emplea un nuevo sistema para dirigir la luz EUV con menos pérdida de luz, que permite un alto contraste para mayor precisión a escala nanométrica. Esto permitirá reducir el consumo a una décima parte del actual, reduciéndose desde 1 megavatio a 100 kilovatios.

Por el momento, se ha presentado una solicitud de patente para implementar esta tecnología a través de pruebas de laboratorio. El resultado sería un menor consumo, con solo un 10% del actual, junto con mayor cantidad de luz que llega hasta la oblea, un 10% del total respecto al 1% con el sistema actual de 6 o más espejos, y un reducido coste que permitirá ofrecer esta nueva tecnología por menos de 100 millones de dólares.

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